Немецкий производитель оптики прогнозирует 15-летний отрыв Китая в EUV-технологиях

Немецкая оптическая компания Zeiss Group высказала прогноз о глубоком техническом отставании Китая в области полупроводниковой литографии. По мнению немецких специалистов, разработка собственного EUV-оборудования потребует от китайских производителей как минимум 15 лет интенсивных разработок и инвестиций.

Эта оценка отражает масштаб технологического вызова, стоящего перед Китаем в его стремлении к независимости от западных поставщиков в производстве микросхем. EUV-литография остаётся критически важным элементом создания современных процессоров, и западные компании, прежде всего голландская ASML и немецкая Zeiss, до сих пор монополизируют этот рынок.

Программа импортозамещения в Китае становится всё более амбициозной, однако эксперты указывают на огромный разрыв между текущим состоянием отечественных технологий и мировыми стандартами.