Китайцы ускорили производство чипов

Ионно-лучевая литография оказалась более эффективной, чем классическая фотолитография, в плане создания чипов с меньшими технологическими нормами. Однако этот метод имел значительный недостаток - низкую скорость производственных операций. Китайские исследователи смогли решить эту проблему и ускорить процесс обработки кремниевых пластин в сотни раз, что особенно важно для производства фотонных чипов. Такой прорыв может иметь большое значение для развития технологий. Китайские ученые продемонстрировали значительный прогресс в этой области, который может иметь далеко идущие последствия.