Китай создал ключевой компонент EUV-литографии
Исследователи из Китая создали источник лазерного излучения в сверхжёстком ультрафиолетовом диапазоне для суверенной EUV-литографии. Это достижение открывает путь для развития китайской полупроводниковой промышленности. Успех стал возможен с помощью бывшего инженера ASML, что дало Китаю шанс выйти на новый уровень в производстве полупроводниковых компонентов.
По материалам 3DNews (технологии)
Ещё в рубрике «Технологии»
- Эксперт OpenAI предупредил об угрозе человечеству от неконтролируемого ИИ
- DeepSeek выпустила обновлённую версию скоростной нейросети V4.1-Flash
- Qualcomm представит чипы Snapdragon 8 Gen 6 с поддержкой ИИ
- Ведущий специалист по ИИ покинул Meta после нескольких месяцев работы
- Бывший разработчик ИИ предупредил об опасности искусственного интеллекта
- Apple выпустила первый складной iPhone Duo стоимостью $1999
Свежее на портале
- Finalmouse Starlight X побила рекорд по скорости отклика среди игровых мышей
- Саудовский фонд рассматривает слияние EA и Niantic для создания игровой супердержавы
- Эксперт OpenAI предупредил об угрозе человечеству от неконтролируемого ИИ
- Warhammer 40,000: Dawn of War 4 впечатлил геймеров новым геймплеем
- DeepSeek выпустила обновлённую версию скоростной нейросети V4.1-Flash
- Qualcomm представит чипы Snapdragon 8 Gen 6 с поддержкой ИИ